プラズマ発生用高周波電源

高速RF*1立ち上り、立下り技術

電源回路と出力自動制御回路の最適な設計を行うことにより、高速RF 立上り時間、立下り時間*2を実現しました。

高反射耐性

高反射電力耐性の最新のデバイスを採用することで、アイソレータなし、かつ出力垂下なしでも、一定時間内であれば、全反射状態でも規定出力可能な設計を実現しました。

高周波電源は、負荷が動的に変化することを前提に設計する必要があります。たとえば、プラズマが着火する前後で大きな負荷変動が発生し、反射係数が∞からゼロになるような負荷の動きであっても自装置が破損してはいけません。

一般的には、負荷条件が悪い場合、出力を垂下させて自装置を守り、整合器による整合動作が完了後に規定出力を出せますが、当社の高周波電源は、整合器による可変整合では時間的に間に合わないようなアプリケーションにも適用できます。

*1

RF ： Radio Frequency（無線周波数）

*2

RF 立上り時間：RF 出力が10% ⇒ 90% に上がるまでの時間
RF 立下り時間：RF 出力が90% ⇒ 10% に下がるまでの時間

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