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Hitachi

株式会社 日立国際電気

バッチサーマルプロセス装置

アプリケーション

QUIXACE

  • LP CVD
  • 酸化
  • アニール

概要

QUIXACE(クイックエース)は、当社のコア技術である温度制御技術、自動搬送技術、真空・ガス置換技術、冷却技術、成膜技術を結集することで、飛躍的にサイクル時間を短縮し、高スループットを実現したバッチ処理装置です。

特長

  • ラージバッチ装置(最大 125枚一括処理)とミニバッチ装置(最大 50枚一括処理)をラインアップ
  • ショートサイクルタイムの実現による高スループット
  • ガスクリーニングによるダウンタイム低減、稼働率向上
  • 高速昇降温ヒータ、ウェーハ高速搬送システム搭載
  • 雰囲気制御(オプション:真空L/L、N2パージ)でプロセス性能向上

バッチサーマルプロセス装置「QUIXACE」に関するお問い合わせ

電子機械事業部

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