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Hitachi

株式会社 日立国際電気

バッチ高温アニール装置

アプリケーション

バッチ高温アニール装置

  • 高温アニール
  • 超高温アニール(1300℃以上)

概要

高温アニール装置は、高品質ウェーハ向けの高温アニールプロセスと半導体デバイスプロセスの高温処理に対応した装置です。
超高温アニールプロセスでは、1350℃という高温下においてのプロセスで発生するスリップを抑制し、大口径300mmウェーハを高スループットに処理します。

特長

  • 1350℃スリップフリー
  • 300mmウェーハ対応
  • 多数枚一括同時処理により高スループット実現
  • 高清掃構造により、金属汚染低減

バッチ高温アニール装置 に関するお問い合わせ

電子機械事業部

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TEL(03)6734-9470 FAX(03)5209-5943