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Hitachi

Hitachi Kokusai Electric Inc.

薄膜形成处理技术

应用

薄膜形成处理技术

  • 绝缘膜形成(预定)

概述

Balance Controlled Deposition(BCD)是在以我公司独创的下一代新成膜解决方案。 利用BCD技术可高次元地既满足下一代半导体工艺所要求的低温处理、精细加工又获得高生产率、并能向各种应用领域展开。

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BCD is a registered trademark of Hitachi Kokusai Electric Inc.

特点

  • 出色的高低差被覆性
  • 膜质控制
  • 低温成膜
  • 良好的膜厚均匀性
  • 低污染