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Hitachi

Hitachi Kokusai Electric Inc.

批式高温退火设备

应用

批式高温退火设备

  • 高温退火
  • 超高温退火(1300℃以上)

概述

高温退火设备是适应生产高品质晶片的高温退火工艺和半导体设备工艺中高温处理的设备。
超高温退火处理能抑制在1350℃高温下进行的处理所发生的滑移,高产出地处理大直径300mm晶片。

特点

  • 1350℃无滑移
  • 支持300mm晶片
  • 一批同时处理多块,实现高产出
  • 采用高清扫结构,降低金属污染